場發(fā)射臺式掃描電鏡ZEM Ultra是一款高分辨率臺式掃描電子顯微鏡（SEM），基于肖特基場發(fā)射電子源與三級獨立真空系統(tǒng)設(shè)計，專為材料科學、納米技術(shù)及工業(yè)檢測領(lǐng)域的高精度微納結(jié)構(gòu)分析打造。其臺式設(shè)計兼具緊湊性與穩(wěn)定性，分辨率≤2.5nm，支持50萬倍放大及多模態(tài)信號檢測（SE/BSE/EDS/EBSD），適配從常規(guī)表征到原位動態(tài)研究的多樣化需求。

核心特點

1. 高分辨成像性能

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• 場發(fā)射電子槍：提供高亮度、低能量擴散電子束，分辨率≤2.5nm，清晰呈現(xiàn)納米級表面形貌與成分分布。

• 多級真空系統(tǒng)：獨立真空設(shè)計，提升抗污染能力，保障長時間穩(wěn)定觀測。

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3. 全自動化與智能操作

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• 一鍵式自動功能：自動亮度/對比度調(diào)節(jié)、自動聚焦、大視野圖像拼接，簡化復雜操作流程。

• 光學導航與倉內(nèi)相機：快速定位樣品區(qū)域，減少人工調(diào)整時間。

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5. 靈活擴展與多功能適配

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• 大樣品倉設(shè)計：內(nèi)部尺寸176×185×125mm，兼容塊體、粉末、薄膜等多樣本類型。

• 原位功能拓展：支持電動多軸樣品臺（XYZ/XYT/五軸）、減速模式（0-10kV）及原位動態(tài)實驗（如加熱、拉伸）。

• 多探測器兼容：標配二次電子（SE）、背散射電子（BSE）探測器，可選配EDS能譜與EBSD衍射系統(tǒng)，實現(xiàn)成分與晶體結(jié)構(gòu)分析。

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7. 工業(yè)級穩(wěn)定性與效率

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• 抗震優(yōu)化設(shè)計：適應(yīng)實驗室或工業(yè)現(xiàn)場環(huán)境，確保成像穩(wěn)定性。

• 快速成像模式：512×512像素視頻級實時觀測，2048×2048像素高清拍攝，滿足高效檢測需求。

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應(yīng)用領(lǐng)域

• 納米材料：碳納米管、金屬顆粒、量子點形貌與尺寸分析。

• 能源材料：鋰電池正負極（如磷酸鐵鋰）、催化劑、光伏材料微觀結(jié)構(gòu)表征。

• 半導體與電子：芯片缺陷檢測、薄膜涂層均勻性評估。

• 地質(zhì)與化工：礦物顆粒、高分子材料、多孔介質(zhì)（如二氧化硅）表面研究。

參數(shù)摘要

場發(fā)射臺式掃描電鏡 優(yōu)勢總結(jié)

• 臺式高效：場發(fā)射光源+全自動操作，兼顧高分辨率與便捷性。

• 多維分析：支持形貌、成分、晶體結(jié)構(gòu)多模態(tài)數(shù)據(jù)聯(lián)動。

• 擴展靈活：原位臺與減速模式拓展動態(tài)實驗?zāi)芰Γm配前沿科研需求。